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用紫外光代替活性炭处理光亮镀镍液中有机杂质的方法放入原理和使用效果如何?有何优点?

来源:admin     时间::2017-06-29 16:04:53       镀镍溶液一般使用1~3个月后,各种杂质累积到一定程度后,无法获得满意镀层时,就必须对镀液进行一次大处理。目前对Zn、Cu、Fe等无机杂质多采用第二代除杂剂去除。它是一种螯合剂,能与铜、铁的离子形成络合物,使其沉积电位与镍接近,可以与镍共沉积析出到Ni镀层中,因其用量少而且不影响镍层性能,这是一种优良的除杂方法。
      镀镍液中常添加光亮剂、添加剂等多种有机物。在镀液的使用过程中,这些有机物在电极反应中会发生氧化或还原反应过程,分解为有害的有机物(有机杂质)。有机杂质的累积也会使镍镀层质量变坏。目前除去有机杂质的常用方法是活性炭-双氧水法。利用双氧水H?O?尽量氧化、分裂有机物为分子量较小的有机物,以便活性炭吸附有机物。然后通过搅拌让活性炭与溶液(有机物)尽量接触吸附。最后过滤去掉活性炭,达到去除有机杂质的目的。
      最近国外出现了一种紫外线-H?O?氧化法处理有机杂质的方法,效果很好。其原理是把H?O?加入镀镍液中,在紫外光照射下,H?O?会分解成氧化反应能力极强的(OH)活性基团,它能把有机物很快氧化变成CO?和H?O,镀镍光亮剂中的含硫有机物则氧化成硫酸盐。也就是说把有机杂质和有机物都从镀液彻底清除干净了。没有在镀液留下任何有害的产物。
      紫外线-H?O?氧化法处理镀镍液内有机杂质的过程很简单,通常采用分批处理。每次用过滤泵抽取槽液的10%~15%到一个槽中,加入H?O?,然后用紫外线灯照射。处理完一批后按新配溶液数量加入光亮剂,并用过滤泵重新送回镀Ni槽内,然后再处理第二批。整个过程完全采用自动化操作,简答而快捷。
      采用新方法清洁镀镍槽后,槽液可以连续产生几年时间不停产,而用活性炭处理有机杂质则必须每隔几个月就要停产处理一次。由于某些方法生产的活性炭中有锌、铁离子杂质,在选用活性炭品质时必须注意(否则会把Zn、Fe等带入镀液中)。即使如此,有时仍难免会从活性炭内溶解出有害杂质污染镀镍液。
      用活性炭吸附镀液中有机杂质后,还必须通过过滤液把活性炭滤除掉。如果采用细粉状活性炭,则过滤比较困难些;采用粒状活性炭则吸附的容量和吸附效率要低些。每次过滤完成后,还必须彻底清洗渡槽,以去掉残存的活性炭粒,劳动量是比较大的。当然,如果是用调控槽调控镀液,则在调控槽内用活性炭处理槽液,其停产处理时间可以缩短很多,甚至可以不停产处理,但其需用较大的劳动量却是省不掉的。由于紫外光-H?O?法不产生任何固体废渣,所以可以略去上述操作。
      采用活性炭-H?O?法大处理一次镀镍溶液,由于活性炭的吸收、槽底剩余的镀液、清理阳极袋等的镀液损失量要达到镀液总量的15%左右。这是一个很大的经济损失。而新方法则基本没有上述这种损失。
      采用活性炭法损失的镀镍液大部分都会进入电镀污水处理系统,这无疑又增加了污水处理量,及污水处理成本。
      紫外光-H?O?法处理镀镍液中有机杂质的方法,虽然是针对镀镍溶液而说明,但该法应该完全有可能也用处理光亮酸铜、锌、锡等镀液中的有机杂质。
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